布图设计权的取得及保护期限

第三节　布图设计权的取得及保护期限

一、布图设计权的取得

取得布图设计权，必须符合一定的条件：一是主体合格，二是布图设计符合受保护的条件，三是通过一定的方式，履行必要的手续方能取得布图设计权。

（一）主体资格

《集成电路布图设计保护条例》第3条规定，中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有布图设计保护协议或与中国共同参加有关布图设计保护国际公约的，也能依照本条例享有布图设计专有权。

（二）客体条件

布图设计专有权的客体应当是具有独创性的布图设计。《集成电路布图设计保护条例》第4条规定：“受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”

（三）布图设计权的取得方式与程序

《华盛顿条约》规定，布图设计获得保护既可以商业利用为条件，也可以登记为条件，由各国自行决定。除英国、瑞典采用自然取得方式以外，就目前而言，登记与有限使用取得方式和登记取得方式都有一些国家采用。

关于登记取得程序，《集成电路布图设计保护条例》规定，国务院知识产权行政部门负责布图设计登记工作，受理布图设计登记申请。布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。布图设计登记申请经初步审查，未发现驳回理由的，由国务院知识产权行政部门予以登记，发给登记证明文件，并予以公告。布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门驳回其登记申请的决定不服的，可以自收到通知之日起3个月内，向国务院知识产权行政部门请求复审。国务院知识产权行政部门复审后作出决定，并通知布图设计登记申请人。布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门的复审决定仍不服的，可以自收到通知之日起3个月内向人民法院起诉。

（四）布图设计权的归属

根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，布图设计权归属的法律原则为：

1.布图设计专有权属于布图设计创作者，条例另有规定的除外。由法人或其他组织主持，依据法人或其他组织的意志而创作，并由法人或其他组织承担责任的布图设计，该法人或其他组织是创作者。由自然人创作的布图设计，该自然人是创作者。

2.两个以上自然人、法人或其他组织合作创作的布图设计，其专有权的归属由合作者约定；未作约定或约定不明的，其专有权由合作者共同享有。

3.受委托创作的布图设计，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定；未作约定或约定不明的，其专有权由受托人享有。

4.布图设计专有权属于自然人的，该自然人死亡后，其专有权在条例规定的保护期内依照继承法的规定转移。

5.布图设计专有权属于法人或其他组织，法人或其他组织变更、终止后，其专有权在条例规定的保护期内由承继其权利、义务的法人或其他组织享有；没有承继其权利、义务的法人或其他组织的，该布图设计进入公有领域。

二、布图设计权的保护期限

关于布图设计权的有效期，《华盛顿条约》要求至少为8年，Trips协议规定为10年，并允许其成员国规定自布图设计作出之日起15年以后保护终止。目前，世界上大多数国家都将布图设计权的保护期限规定为10年。

不过，各国对保护期起算时间的规定有所不同。《集成电路布图设计保护条例》第12条规定，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受该条例保护。