集成电路布图设计概述

第一节　集成电路布图设计概述

一、集成电路布图设计的概念与特征

集成电路中的布图设计，并非集成电路本身。布图设计可以掩模图形的方式存在于掩模板上，也可以编码的方式存在于计算机中或磁盘、磁带上，或者已经制造完毕的集成电路芯片产品中。布图设计是以图形的方式存在于芯片表面和表面下不同深度处。这些掩模板、磁盘、磁带、芯片，都是布图设计的载体。布图设计是在这些载体上所反映出来的电子元件和连接这些元件的连线的布局设计，它是无形的，不能与其载体混为一谈。

《关于集成电路的知识产权条约》（《华盛顿条约》）对集成电路布图设计所下的定义是：“布图设计是指集成电路中多个元件，其中至少有一个是有源元件和其部分或全部集成电路互连的三维配置，或者是指为集成电路的制造而准备的三维配置。”我国《集成电路布图设计保护条例》第2条规定：“集成电路布图设计（简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。”以上定义基本一致。

布图设计有如下特征：

1.布图设计是智力成果。同发明和作品一样，它是设计人智慧的结晶。

2.布图设计是无形的、非物质的，但却是客观存在的，能够被人所感知和利用，可以通过一定的有形物体来表现。

3.布图设计能够在工业中应用。布图设计是集成电路的核心，目的是实现集成电路的功能。如果不能实现这一功能，再完美的设计也不能称为布图设计。在实用性这一点上，布图设计与发明有相似之处。

二、布图设计的保护方式

《华盛顿条约》第4条对集成电路的法律保护形式所作的规定是：“每一缔约方可自由通过布图设计（拓扑图）的专门法律或者通过其关于著作权、专利、实用新型、工业品外观设计、不正当竞争的法律，或者通过任何其他法律或者任何上述法律的结合来履行其按照本条约应负的义务。”该规定向各缔约方提出了以下几种可选择的单独或并用的保护形式：（1）专门法保护形式，即制定单行法对集成电路布图设计进行保护；（2）将布图设计作为一种作品给予著作权保护；（3）将布图设计作为一种发明给予专利权保护；（4）将布图设计作为一种实用新型进行保护；（5）将布图设计作为一种工业品外观设计给予保护；（6）对布图设计给予制止不正当竞争保护；（7）除上述六种保护形式之外的其他保护方式；（8）将上述七种保护形式中两种或两种以上的形式结合对布图设计给予保护。

（一）专利法的保护

20世纪70年代以后，集成电路进入工业标准化制造阶段，布图设计与集成电路产品的制造分离。布图技术设计方案也可以获得专利法的保护。但是，专利法也难以对布图设计直接提供有效的保护。其原因主要有：

1.大部分集成电路布图设计缺乏专利保护所必需的创造性。现在的集成电路，其布图设计的中心思想都是实现集成电路的功能。设计者主要在提高集成度、节约材料、降低能耗上下功夫。一般同类集成电路产品，其布图的设计方案不会有什么大改变，绝大多数的基本设计思想是相同的，很少能具备专利法上的创造性的要求。

2.集成电路工艺技术，虽然可作为方法专利获得保护，但极不充分。现实中已有不少集成电路制造工艺技术作为方法申请了专利。因为在同样的工艺下，改变布图设计便可生产出不同的集成电路芯片或产品；反过来，相同品种的集成电路也可用不同的工艺方法来制造。

3.即使布图设计达到专利法要求的创造性，但由于布图设计过于复杂，设计人很难按照法律的要求提交文字简洁的权利要求书。而且，对于特大或超大型布图设计的专利性审查也不是一件容易的事情。即便布图设计获得专利权，若一旦被侵权，法院也很难认定。

4.申请专利需要履行法定程序，且耗费时日，也很难适应集成电路技术日新月异的变化。

总的来讲，专利法虽然在原则上适用于集成电路的保护，但采用专利法保护集成电路布图设计并不理想。

（二）著作权法的保护

之所以提出用著作权法来保护集成电路布图设计，是因为集成电路布图设计具有著作权保护对象所必须具备的可复制性这一特征。正是这种可复制性直接导致了著作权法的某些保护原则和手段可以适用于集成电路布图设计。不过，布图设计毕竟不同于普通作品，将这种具有实用性的布图设计单纯地依靠著作权法所能提供的方式来保护，其结果也不尽如人意。其原因主要有：

1.布图设计不同于其设计图纸，它不属于著作权法所指的作品。集成电路布图设计主要执行某种电子功能，不表现作者的思想情感。设计者一般只关注布图设计的不同图形产生的不同技术效果，著作权法对于这种技术效果是无能为力的。著作权法也不保护其工业产权上的实用功能。

2.布图设计的目的是制造集成电路，被认为是一种纯功利主义的实用物，不符合著作权法保护对象的要求。若将这种毫无艺术性的布图设计归入雕塑等造型艺术类作品中加以保护，则违背了著作权法实用与非实用的两分法原则。

3.集成电路布图设计有一定的厚度、是立体的。有些国家的著作权不禁止对“立体物”的非接触复制，因而无法对非法复制他人的布图设计的现象加以限制。^[1]

4.集成电路布图设计的“复制”与著作权法中“复制”的含义不同。集成电路布图设计的复制通常包含“仿制”产品的情形，即复制者在自己的硅片上仿照他人的布图设计进行电子元件及连线的三维配置。著作权法只能制止非法复制他人的设计图样及文字说明的行为，而无法制止利用布图设计制成芯片的这种仿制。

5.按照著作权法的独创性原则的要求，作品只要是作者独立创作完成的，不论其水平高低，也不论是否与别人的作品雷同，一律受著作权法的保护。而集成电路布图设计具有技术要求，其价值的高低取决于该布图设计在技术上的创新。法律保护的是那些在技术上有所创新的布图设计。

6.著作权过长的保护期对集成电路布图设计很不适宜。

7.依照著作权法，集成电路实施的反向工程行为将构成侵权，这对集成电路产业的发展十分不利。

（三）其他知识产权法的保护

在现有的知识产权法中的商标法、反不正当竞争法、商号或企业名称保护法、原产地名称保护法等都不能给集成电路提供可行的保护。另外，技术秘密也难以为集成电路提供可靠的保护，因为集成电路产品一旦出售，其布图设计就公开了，任何人都可以通过实施布图设计反向工程获知该集成电路的布图设计。

（四）专门法的产生

1984年11月8日，美国颁布了《半导体芯片保护法》，该法虽然列在美国法典第17编的第九章，但并不属于第17编的著作权法，而是一部独立的法律，它是世界上第一部专门的集成电路保护法。继美国颁布《半导体芯片保护法》之后，日本、西欧各国相继效仿，都以专门立法的形式颁布了各自的集成电路保护法。

我国从1991年开始着手起草《集成电路布图设计保护条例》，经过10年的努力，完成了立法任务。2001年3月28日通过了《集成电路布图设计保护条例》，同年10月1日起施行。

世界知识产权组织于1987年提出缔结关于保护集成电路知识产权国际条约的建议，1989年5月26日，世界知识产权组织在华盛顿召开关于集成电路知识产权外交会议，会上通过了《关于集成电路的知识产权条约》，我国是首批在条约上签字的国家。该条约对保护的客体、保护的法律形式、保护的范围、权利的限制、权利的获得及期限等问题都作了明确规定，至今该条约尚未生效。但是，Trips协议吸收了该条约的主要条款，条约的主要内容也随着协议一起生效。Trips协议专门规定了集成电路的保护，而且在保护水平上比《关于集成电路的知识产权条约》更进一步，这主要体现在布图设计权的效力可以延及包含有集成电路产品的物品。