【摘要】：GT是非完全曝光图形掩模板的曝光部分，GT部曝光量的确定比较复杂，不仅要考虑D层图形中D-Bus线线宽，还要考虑对GT部光刻胶形状参数。基于上述考虑，GT部曝光量的评价分为3部分：GT部光刻胶形状；不同预烘焙烘箱所造成差异的评价；D-Bus线线宽。关于光刻胶刻蚀的评价有两部分内容：光刻胶刻蚀量的大小与光刻胶刻蚀面内均一性。
7.6.1 工艺评价项目
（1）D层最佳曝光量。
（2）GT部曝光量。GT是非完全曝光图形掩模板的曝光部分，GT部曝光量的确定比较复杂，不仅要考虑D层图形中D-Bus线线宽，还要考虑对GT部光刻胶形状参数。由于这些参数受曝光量的影响发生变化时，变化程度不同（线性关系的斜率不同），对应于以上参数各自目标值的最佳曝光量也不同，因此，最终曝光量的确定要权衡对各参数的影响，优先考虑某些参数，确定曝光量时要优先考虑对沟道宽度L的影响。
基于上述考虑，GT部曝光量的评价分为3部分：GT部光刻胶形状；不同预烘焙烘箱所造成差异的评价；D-Bus线线宽。
（3）光刻胶刻蚀。光刻胶刻蚀是GTM工艺中特有的工序，在D-Bus线的湿刻完成后，对使用GT掩模板形成的光刻胶图形进行干刻，将GT部光刻胶残膜刻蚀掉，以便对沟道处的金属膜层进行第二次湿刻，因此，光刻胶刻蚀量的大小将对最终形成的沟道的宽度产生影响。关于光刻胶刻蚀的评价有两部分内容：光刻胶刻蚀量的大小与光刻胶刻蚀面内均一性。
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