软件环境设置

1.1.2　软件环境设置

1．文件传输

把技术文件techfile.tf和显示文件display.drf拷贝到student_project项目文件夹中。

【小提示】

（1）技术文件是什么

技术文件是芯片制造厂为版图设计者提供的工艺细节规定，包括层定义、器件定义、布线规则和层、物理、电学规则等。其中，层定义主要包括层用途、LSW中显示的工艺层、层的显示、层的属性等。物理规则中主要定义了层与层之间的最小间距等。

（2）显示文件是什么

显示文件主要为版图设计者提供颜色、条纹和线形的定义，包括颜色定义、条纹定义、线形定义、显示包定义（列出各层对应的颜色、条纹、线形）等。

（3）为什么需要拷贝这两个文件

版图设计必须考虑具体的工艺实现，故存放版图的设计库Library（可以理解为设计项目），它的层次必须和具体的工艺对应起来。同时版图的层次显示对于版图设计也很重要，如果各版图层次的颜色定义不合理，会给版图设计带来不小的困难。所以在设计版图时，必须先要有技术文件techfile.tf和显示文件display.drf。

有两种文件传输的方法：

如果通过服务器连接使用Cadence，则文件的上传和下载是通过flashfxp进行传输的；如果运用虚拟机来使用单机版Cadence，则需要进行如下设置，以便文件的传输。

点击虚拟机上的菜单VM→Settings，如图1.3所示。

图1.3　点击VM→Settings

然后在VM→Settings中设置，如图1.4所示。步骤如下：

Options→Shared Folders→Always enabled，填写Windows中共享文件夹所在的路径，例如E:\share。

把传给Linux的文件：techfile.tf和display.drf拷贝到Windows系统的共享文件夹E:\share中，然后通过虚拟机进入Linux，再在Linux中通过访问/mnt/hgfs/共享文件夹，把共享文件夹中的文件拷贝到项目文件夹student_project中，如图1.5所示。

图1.4　虚拟机具体设置

图1.5　技术文件拷贝

【小提示】

如果没有安装Vmware Tools，则在Linux中看不到共享文件。

Linux通过访问/mnt/hgfs/共享文件夹来访问Windows中的文件。

在Linux中“.”代表当前目录。

2．启动Cadence

在终端窗口输入icfb＆，回车，即可启动Cadence，如图1.6所示。

图1.6　启动Cadence

【小提示】

启动Cadence时，随着输入的命令的不同，启动的模块功能也不同。

输入的命令可以分如下三种。

（1）前端启动命令：如icde启动的模块功能是基本数字模拟设计输入，而icms启动的模块功能是前端模拟、混合、微波设计；

（2）版图工具启动命令：如layout启动的模块功能是基本的版图设计（具有交互DRC功能）；

（3）系统级启动命令：如msfb启动的模块功能为混合信号IC设计，如icfb启动的模块功能为前端到后端的绝大多数设计工具。

3．加入器件库

在打开的Library Manager中调入厂家的器件库文件，这个器件库文件一般放在厂家提供的技术文件中的libs文件夹中。我们以添加库的形式将此器件库加入到当前的Library Manager中，步骤如下。

步骤1：在Library Manager中依次点击Edit→Library Pathƒ，如图1.7（a）所示，出现如图1.7（b）所示的窗口。

图1.7

步骤2：在Library Path Editor窗口中依次点击Edit→Add Libraryƒ，出现一个添加库窗口，如图1.8所示。

图1.8　添加库窗口

步骤3：在查找目录一栏中层级打开目录，找到厂家提供的器件库目录libs后双击（这里为了方便操作，将厂家提供的器件库放在student_project中），相应的库文件就会显示在Library一栏中。

本例中对应的库文件为CSMC05MS（本书涉及的工艺库都为CSMC05MS）。

选中CSMC05MS文件后，单击“OK”确认。这样，器件库就添加到Library Manager中了，如图1.9所示。

步骤4：保存后覆盖原有的cds.lib文件，退出即可。如图1.10所示。

至此，打开Library Manager后，可以看到库中已经添加的器件库文件CSMC05MS。所有的器件信息已经在库中可以看到，如图1.11所示。

图1.9　添加库后的Library

图1.10　保存库设置

【小提示】

（1）关于库。从图1.12可以看出，Library（库）可以理解为一个设计项目，这个项目有独立的工艺库。Cell（单元）是库的组成元素，而View则是单元的各种表达形式，如Layout（版图）、Schematic（电路图）、Symbol符号。

图1.11　器件库信息

图1.12　库结构示意图

（2）添加或者删除库的操作结果可以在项目目录下的cds.lib文件中查看，如图1.13（a）、图1.13（b）所示，命令为：vicds.lib。

图1.13

（3）为了能让某些库成为默认已经添加的库，请参见步骤3的操作和图1.9。必须在进入项目文件夹启动cadence之前对用户目录下的cds.lib文件作定义，因为用户目录下的cds.lib指定了哪些库是默认已经添加的库。在用户目录下用VI编辑器编辑cds.lib，如图1.14所示，其中cds.lib指明引用名称（在Cadence中的标识名）和绝对路径。

例如：DEFINEcdsDecTechLib$CDS_INST_DIR/tools/dfII/etc/cdsDefTechLib，$CDS_INST_DIR为IC5141的安装目录。

图1.14

4．建立设计库

一般情况下，每一个芯片设计项目都对应一个设计库，然后在这个设计库下面创建各个子模块，以方便项目的管理。

步骤：在Library Manager中点击File→New→Library，填入设计库的名字，如图1.15所示。

5．关联到指定工艺库

为新的设计库指定一个工艺库，这里指定的一个工艺库是前面添加的CSMC05MS工艺库。

步骤：新建设计库时，完成上述4的步骤，点击“OK”后，会出现如图1.16（a）所示的选项。选择第二项：Attach to an existing techfile，点击“OK”；在跳出的对话框中选择CSMC05MS工艺库，点击“OK”，如图1.16（b）所示。

图1.15　建立设计库

图1.16　关联工艺库

【小提示】

关于techfile.tf和图1.16（a）选项：

步骤5完成的是把新建的Library与提供的CSMC05MS工艺库的技术文件关联起来，新建的Library自己本身是不含技术文件的。

在图1.16（a）中，可以选择第一个选项Compile a new techfile，并在后面的选项窗口中选择一个techfile.tf。通过这种方法可以建立一个含独立技术文件的Library。