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激光工艺参数对熔覆层形貌及尺寸的影响

时间:2022-11-02 百科知识 版权反馈
【摘要】:为考察高功率半导体激光熔覆系统下,其主要工艺参数之一---激光功率密度对熔覆层外观尺寸的影响,以获得外观成形及质量良好的熔覆层,有必要对熔覆层截面的相关尺寸,即熔覆层宽度W、熔覆层高度H以及基材的熔化深度h等进行精确的测量。

激光熔覆过程中,影响熔覆层形貌和尺寸的参数主要有激光功率密度、送粉速率、激光扫描速度和保护气流速等,这些参数的相互耦合作用下,可得到不同形貌和微观组织,由于参数较多,为了研究方便,固定其他参数不变,针对激光功率密度对熔覆层的影响进行了研究。

为考察高功率半导体激光熔覆系统下,其主要工艺参数之一---激光功率密度对熔覆层外观尺寸的影响,以获得外观成形及质量良好的熔覆层,有必要对熔覆层截面的相关尺寸,即熔覆层宽度W、熔覆层高度H以及基材的熔化深度h等进行精确的测量。试验采用AxioVision LE图像软件进行熔覆层相关尺寸的测量。

表4-2是激光熔覆参数,通过调节反馈系统中的设定尺寸(Size setpoint)参数来控制激光输出功率,其他参数不变。

表4-2 激光熔覆参数(激光斑点2.0mm×3.3mm)

图4-5是在不同功率密度获得的熔覆层的横截面宏观形貌。从熔覆层的横截面可以看出,在其他参数不变的情况下,功率密度越高,熔覆层的厚度越大,熔覆层的宽度也会增加,其统计结果如图4-6所示。结合显微镜的横截面形貌可以得到,随着激光功率的增大,熔覆层的宽度和基材的熔化深度均呈现逐渐增大的趋势。因此可以得出,在其他工艺参数一定的情况下,激光功率密度的大小将直接影响激光熔覆时热输入量的大小,激光功率密度越大,单位面积单位时间内能量的输入越大,粉末以及基材的熔化量也就越多,这就导致了熔覆层的宽度、高度以及基材熔化深度的增大。

图4-5 样品1、2、3、4#横截面宏观形貌

(a)273.79W/mm2(b)314.85W/mm2(c)333.18W/mm2 (d)348.48W/mm2

图4-6 激光功率密度对宽度、高度和熔深的影响

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