【摘要】：工艺腔由10个反应室和10个冷却箱构成，各自之间通过铰链连接，如图6.10和图6.11所示。保养检查的方法是敲击真空腔与反应室之间的门，根据声音判断其是否正常。Unaxis反应室采用了10个反应室平行排列，SiN，非晶硅和n＋非晶硅3层膜按相同的次序生产，不会产生交叉污染。Unaxis反应室总体设计比较稳定，资源利用率高。Unaxis反应室的设计内部高度比较低，只有27.55mm，在搬运基板时要特别小心，处理不好容易导致基板的损害。
6.3.3 反应室结构
工艺腔由10个反应室和10个冷却箱构成，各自之间通过铰链连接，如图6.10和图6.11所示。腔室的门由弹簧和铝金属板构成，通过弹簧把金属板压在腔上，保持关态。每个反映腔的泄漏率都有一定的要求，因为弹簧会随着时间的推移而老化，因此需要定期保养。保养检查的方法是敲击真空腔与反应室之间的门，根据声音判断其是否正常。
图6.10 Unaxis PECVD设备PM腔室
Unaxis反应室采用了10个反应室平行排列，SiN，非晶硅和n＋非晶硅3层膜按相同的次序生产，不会产生交叉污染。Unaxis反应室总体设计比较稳定，资源利用率高。采用的20个倒梯形的PIN可以有效防止出现摩擦角，把PIN锁死。出气口在两边，每边两个。Unaxis反应室的设计内部高度比较低，只有27.55mm，在搬运基板时要特别小心，处理不好容易导致基板的损害。同时由于反应室不能从上面打开，会给清洗带来一些问题。
图6.11 Unaxis PECVD反应室结构
反应室内部各层机构为：
（1）上板。
（2）金属封止板。
（3）气体扩散板（通过陶瓷垫圈与上下绝缘）。
（4）电容扩散板。
（5）电极。
（6）扩散板。
（7）下电极。
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