【摘要】：铝刻蚀槽1和铬刻蚀槽1或刻蚀槽2中都有控制刻蚀程度的终点探测器，而ITO由于膜层透明，不能用EPS控制刻蚀程度。铝刻蚀装置中有紫外发射装置，其作用是为了分解有机物，提高浸润性，有利于栅极层的刻蚀形状。ITO刻蚀槽均采用倾斜5°搬送，这样在刻蚀时新旧药液置换速度加快，药液的浸润性更好，从而刻蚀速度加快，有利于刻蚀的均匀性及线宽控制，还能有效地节省药液。
8.3 湿法刻蚀设备
湿刻工艺的设备主要由刻蚀槽、水洗槽和干燥槽构成，如图8.4和图8.5所示。工艺不同，各槽的数目和结构有所不同。槽内气压控制较为重要，各刻蚀槽气压相等，且保持为负压，以防止刻蚀液液雾进入洁净房。搬运部分是大气压刻蚀槽的气压低于大气压，水洗槽的气压比刻蚀槽还要低一些。空气刀干燥槽的气压比大气压要高一点。各刻蚀槽、水洗槽前部有入口喷淋（Shower），液切风刀的位置在整个装置的最后部分。
图8.4 湿刻工艺的主要设备
图8.5 湿刻工艺装置结构示意
铝刻蚀槽1和铬刻蚀槽1或刻蚀槽2中都有控制刻蚀程度的终点探测器（end point sensor，EPS），而ITO由于膜层透明，不能用EPS控制刻蚀程度。EPS是一个激光传感器，主要是通过透光量来控制刻蚀程度的。
铝刻蚀装置中有紫外发射装置，其作用是为了分解有机物，提高浸润性，有利于栅极层的刻蚀形状。ITO刻蚀槽均采用倾斜5°搬送，这样在刻蚀时新旧药液置换速度加快，药液的浸润性更好，从而刻蚀速度加快，有利于刻蚀的均匀性及线宽控制，还能有效地节省药液。
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