溅射设备的主要技术指标

5.4.3　溅射设备的主要技术指标

在选择设备的时候一定要对设备市场有一个可信赖的调查，根据企业设计的生产能力和规模锁定基本的设备制造商，按照成本性能优化的原则确定设备的技术参数。作为生产设备，在大规模现代化制造业中对设备的首要要求是技术的成熟度、运行的稳定性和可靠性，可变化的功能性是次要的。用于研发的设备，功能性更加重要。

对于溅射设备要根据玻璃基板的尺寸考虑工艺室的规格尺寸。根据工艺技术确定溅射方式，是直流溅射、射频溅射，还是磁控溅射或反应性溅射。重点考察成膜的速率、成膜的均匀性、成膜的致密性、电源功率、生产能力、生产节拍、系统运行的稳定性和可靠性等指标。当然，也要考虑操作的安全性、便利性等。在设备采购中还要特别注意设备制造商的售后服务能力，要求制造商提供完整的技术资料和设备技术培训。只有通过生产线的批量生产试车，设备达到了规格书注明的各项指标，设备才可以验收。

表5.4～表5.11给出了第5代生产线实际使用的溅射设备的主要技术参数。

表5.4　SMD-1200溅射设备的主要技术参数

表5.5　生产能力

表5.6　维护周期

＊sccm：表示每分钟立方厘米（standard cubic centimeter per minute）。

表5.7给出和膜的质量有关的一些条件和要求。其中铝铌合金（AlNd）膜和非晶氧化铟锡（a-ITO）膜是在特定的退火条件下得到的。AlNd和a-ITO的退火条件分别是300℃1个大气压氮气60min和270℃1个大气压氮气60min。其他膜给出的是平均值。

表5.7　和膜的质量有关的一些条件和要求

表5.8给出了膜的质量可重复性指标。

表5.8　膜的质量可重复性指标

退火后的均匀性和重复性一般厂家是不会给出保证的。ITO膜的质量厂家是可以保证的，其他膜的参数只是参考值。

表5.9给出了溅射设备工作介质水、压缩空气、氮气等工作气体用量的参考值。

表5.9　溅射设备水、压缩空气、氮气等工作气体的使用量

＊1：Nm³表示标准立方米；

＊2：SLM表示每分钟标准升（standard liter per minute）。

表5.10给出了制作栅极（Gate）、源极/漏极（S/D）金属膜的溅射设备电力

表5.10　溅射设备电力系统参数

＊：表示没有投入运行。

系统参数，采用210V电源供电。表中给出的都是最大值的极限参数。机组1是一个基本配置，包括配送资源计划（distribution resource planning，DRP）、溅射腔、加热器、无油高真空泵（cryo pump，CP）、BACK等单元。如果系统机组4的溅射腔也投入运行，需要增加与机组3相同的用电功率。如果机组3的溅射腔（X3type）投入运行，则机组3需要与机组5相同的用电功率。如果机组4的溅射腔（X3type）投入运行，则机组4需要与机组5相同的用电功率。

表5.11给出了制作ITO金属膜的溅射设备电力系统参数，采用210V电源供电。表中给出的都是最大值的极限参数。

表5.11　制作ITO金属膜的溅射设备电力系统参数

＊：表示没有投入运行。