【摘要】：畸变检查是曝光精度检查的一部分。根据这些结果的判定，对产品做出相应的处理，对曝光机的曝光进行适当的补正。全面分辨率的检查使用实验批次，对实验基板曝光、显影后，对整个基板上选定的点（84个）进行线幅测定。曝光时用的掩模板为曝光机制造商提供的实验掩模板。实行全面分辨率检查时，如果结果在规格值以外，则需要请设备保全的人员进行针对焦点的不均匀的检查和调整。
7.7.2 设备日常点检
1.畸变检查（distortion check，DR）
畸变检查是曝光精度检查的一部分。进行DR检查时，首先要进行ADC计测，每个Shot都要对应基板上6个位置（每行两个，共有3行）的对位标记，按照行数分为3组进行计测。由于每个对位标记有横（X）纵（Y）两个方向的值，因此，在对每个Shot计测时，可以得到12个ADC计测值，以3Shot为例，对整个基板计测后，就得到12×3个ADC计测值。将这些计测值带入相应的计算程序（DRset2.xls），就可得到曝光精度的各成分的计算结果。根据这些结果的判定，对产品做出相应的处理，对曝光机的曝光进行适当的补正。
2.全面分辨率检查
全面分辨率的检查使用实验批次，对实验基板曝光、显影后，对整个基板上选定的点（84个）进行线幅测定。曝光时用的掩模板为曝光机制造商提供的实验掩模板。
从线幅分布图上的线幅的分布趋势，可以大致判断出导致线幅不匀的原因（涂敷、烘焙、曝光等）。实行全面分辨率检查时，如果结果在规格值以外，则需要请设备保全的人员进行针对焦点的不均匀的检查和调整。测定完后的基板在剥离光刻胶后可以重复使用。
表7.13提供了周边曝光日常点检的主要参数。
表7.13 周边曝光日常点检表
表7.14所示是曝光机MPA-7800的日常点检项目、点检方法、点检频率和处理方法。
表7.14 曝光机MPA-7800的日常点检项目、点检方法、点检频率和处理方法
（续表）
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