国际联手追查元凶

2. 国际联手追查元凶

1992年6月3—14日在巴西里约热内卢举行了联合国环境与发展大会，183个国家的代表团和联合国及其下属机构等70个国际组织的代表出席了会议，102位国家元首或政府首脑亲自与会。这次会议是继1972年的斯德哥尔摩人类环境会议之后举行的讨论世界环境与发展问题的最大一次盛会，是新的历史条件下保护世界环境的一座里程碑。与会期间，各位代表高举环保旗帜，都要求采取有效措施治理日趋严重的全球环境问题，如大气污染加剧、酸雨范围扩大、淡水资源短缺、水土流失和沙漠化扩展、森林资源遭到破坏、野生动植物物种锐减、臭氧层耗损、危险废物扩散和全球变暖等。这些问题对人类生存与发展构成了现实的威胁，特别是使发展中国家处于贫穷和环境恶化的双重困境。环境问题引起了各国的关注，加深了危机感。那么，谁是造成环境污染的“凶手”呢？

污染源

污染源可分为自然和人为的两类。自然污染源是由于自然原因而形成的；人为污染源是由于人们从事生产和生活活动而形成的。因为人为的污染源普遍和经常地存在于环境之中，故比自然污染源更为人们所密切关注。

在人为污染源中，可分为固定的和流动的两种。固定污染源的地点是固定不变的；流动污染源的地点是流动变化的。

在固定污染源中，燃煤烟囱排出的污染物数量非常大。粗略的估算说明，每燃烧1吨煤（设灰分占10％，硫分占3％），在无任何除尘净化设备情况下，向大气排放的烟尘和二氧化硫量可达几十千克。一个较大型的发电厂，每小时的燃煤量常以百吨计，一天内有成百吨的烟尘向大气排放，由此可见它的污染影响之大。同时，对小型工业及采暖也不能忽视，虽然单个锅炉的排烟量与电厂锅炉相比较小，但是在一个大城市内（特别是我国北方），这类锅炉的总数往往达几千台之多，且因锅炉结构不良，燃烧不完全，缺少除尘设备，烟囱不高，因此对大气的污染也是很大的。

大工业烟筒对大气污染的影响，以钢铁厂、水泥厂、炼铝厂、磷肥厂、硝酸厂、硫酸厂、有色金属冶炼厂、石油化工厂、化学纤维厂等最为严重。一个15吨的氧气顶吹转炉，如无除尘设备，烟尘排放浓度高达100克/立方米，一天内的排放量可达几十吨。水泥厂的情况也类似。

流动污染源主要是交通车辆、飞机、轮船所排放出来的废气。这种污染多发生在繁华的市区，交通枢纽和车站码头、机场等地区，所产生的危害很大。

水体早期污染源主要来自自然界，如地表径流挟带落叶、腐殖质等，以及地下水流动中将地层中某些矿物质溶解，从而造成水中某些金属离子如铁、锰、钙、镁等增加，含有机物量增高，使水质变差。后来，随着人口的集中和城镇的发展，城镇居民生活污水就成了水体的主要污染源。城镇污水中含有大量有机物和病原菌，使得受纳水体的质量恶化。近几十年来，随着现代工业的迅速发展，工业废水的排放量剧增，特别是其中污染物浓度高，成分复杂，有毒有害物质含量多，它们排入水体后，严重污染了水体，破坏了水生生态系统，影响了人体健康，因此，工业废水通常是目前水体的主要污染源。

放射性污染

环境放射性的辐射源有天然辐射源和人工辐射源两大类。天然辐射源中，有一种是通过地球大气层的宇宙射线，另一种是地球水域和矿床中的天然辐射源。人工辐射源有医用辐射源，核武器产生的放射性沉降以及核能工业排放的各种放射性废物等。所谓放射性污染，是指因人工辐射源的影响而导致对环境的污染。

对环境造成放射性污染的人工污染源，主要有医用射线源，核武器试验产生的放射性沉降，核能工业排放的各种放射性废物，以及设有辐射源的各种装置、设备等。

目前，医用射线约占人工污染源的94％，占所有射线总量的30％。近年来，人们逐渐认识到它的潜在危险，因而逐步减少医用射线的使用，并改用其他方法。

核能工业包括核燃料的开采、制备、反应堆的运行和辐射后燃料的回收等部门。在这些过程中都会产生放射性废物污染环境。在开采核燃料时，从矿石中提取铀之后，镭以硫化物形式堆积起来，氡则扩散到大气中，构成放射性危害。在核燃料的制备过程中也会产生一部分放射性废物，但数量不大。核动力反应堆产生的放射性废物，数量相当可观。一座反应堆一般每年产生10000立方米废液和10~100立方米不同强度的放射性固体废物。在核能工业中，放射性污染最严重的还是核燃料的再处理工厂。

高新技术引起的环境污染

20世纪80年代，高技术污染引起人们极大的关注，即高技术工业带来了环境污染。有人证明：在加利福尼亚的“硅谷”，地下水是由一个半导体工厂的有机溶剂污染的。

如同“硅谷”的高技术污染一样，在日本，人们对此已经表现出极大的关注，因此，日本政府开始调查地下水污染，并已证实了这种污染。政府开始监督和管理使用有机溶剂的厂家，但是，许多厂家仍在排放污水，这些污水含有毒的化学物质，地下水的污染还在继续。

随着半导体工厂事故的出现，人们认识到，已经使用了许多种有毒化学物质，而故障发生时保护人的措施还没有制定出来。1982年，日本宫崎电气公司发生了一场火灾，使大规模集成电路化为灰烬，这是日本半导体工厂的第一场大火，这场大火使5名工人丧生，多人受伤。很明显，现行的灭火方法并不能满足要求。伴随火灾的出现，显然半导体厂家使用多种有毒化学物质，并且出现了污染环境的可能性。

人们认识到，在半导体工业中，另一个危险是有机溶剂带来的地下水污染。1982年，日本环保局对15个城市的地下水做了调查，并确定地下水污染是由有机溶剂造成的。1983年，日本环保局对13个城市的地下水做了调查，早在1982年就已确定了这些城市的地下水污染，这种污染正在向邻近的地区蔓延。

由于上述原因，环保局指导地方政府调查地下水，并监督使用有机溶剂的工厂。很明显，有机溶剂污染了整个日本的地下水，使用有机溶剂的厂家一直在排放含有有机溶剂的废水，这大大超出了政府规定的临时水排放标准。因此，在科学技术日新月异的今天，我们一定要高度警惕高新技术带来的环境污染。

表6-1　污染物的来源