【摘要】：与灰尘作斗争是TFT-LCD行业永恒的任务。进入TFT-LCD制造车间看到最多的设备就是各种各样的清洗装置。TFT-LCD中的TFT阵列制造是一种表面成膜的大规模集成电路技术，首先是在玻璃基板上生长制作电路必需的金属膜、绝缘膜、半导体膜、合金膜等各种膜。因此，不仅要消除各种微小颗粒，还要消除各种可能的有机污染。化学清洗目前最常用的还是反应式清洗法。TFT阵列基板的清洗是各种清洗技术的综合应用，在TFT工艺的不同阶段采用不同清洗组合方式。
第四章 TFT阵列制作清洗工艺
与灰尘作斗争是TFT-LCD行业永恒的任务。进入TFT-LCD制造车间看到最多的设备就是各种各样的清洗装置。
TFT-LCD的玻璃基板越来越大，分辨率越来越高。TFT-LCD中的TFT阵列制造是一种表面成膜的大规模集成电路技术，首先是在玻璃基板上生长制作电路必需的金属膜、绝缘膜、半导体膜、合金膜等各种膜。每层膜的厚度只有几个纳米到几百个纳米。然后，对膜进行必要的成型加工，形成具有特定电学性能的器件，因此玻璃基板的表面状态就特别重要。几个纳米的颗粒就会造成膜的表面状态的起伏，微米量级的颗粒就会造成膜的断裂或短路，或者破坏器件的电学特性。玻璃基板表面的任何有机溶剂可能造成膜的脱落和溶解。因此，不仅要消除各种微小颗粒，还要消除各种可能的有机污染。
基板表面的清洗技术可分为干式清洗和湿式清洗两大类。也可以分为物理清洗、化学清洗和机械清洗3种模式。
湿式清洗既可以采用物理的方法，也可以采用化学方法。物理清洗一般有如下几种：擦洗、高压喷淋、二流体喷淋、超声波以及其他的室温湿式清洗。化学清洗目前最常用的还是反应式清洗法。干式清洗主要通过紫外线光化学清除法，清除基板表面的细菌等有机污染；低温气胶清除技术、激光辅助清除技术以及空气吹除技术等清除一些特定杂质。TFT阵列基板的清洗是各种清洗技术的综合应用，在TFT工艺的不同阶段采用不同清洗组合方式。
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